349NX: 紫外激光干涉光刻（UV LIL）纳米结构
评估 Skylark 349 NX 激光器在紫外激光干涉光刻装置中增加周期范围和设计复杂纳米级图案的灵活性。
系统架构
将 Skylark 349 NX 激光器集成到劳埃德干涉仪中。空间滤波器扩大光束（功率传输效率 85%）。曝光时长由光束快门控制。
旋转整个干涉仪，精确控制干涉图案的周期。
成功制作出周期在 650 nm 和 1000 nm 之间的结构，这是以前的
266 nm 系统无法实现的。能够利用行业标准抗蚀剂（如 AZ 5214E 和 AZ MIR 701）制作出精细的高纵横比纳米结构。
实现光子晶体、衍射光栅和超表面的定制和重复设计。